Tetrafluoromethane (CF4)
Tetrafluoromethane (CF4) hiện là khí ăn mòn plasma được sử dụng nhiều nhất trong ngành công nghiệp vi điện tử và được sử dụng rộng rãi để khắc các vật liệu như silicon, silicon dioxide, silicon nitride và thủy tinh phosphor silica.
Ngoài ra còn có nhiều ứng dụng trong việc làm sạch bề mặt thiết bị điện tử, sản xuất pin mặt trời, công nghệ laser, làm lạnh đông lạnh, cách nhiệt khí, chất phát hiện rò rỉ, kiểm soát thái độ của tên lửa vũ trụ, chất khử nhiễm trong sản xuất mạch in, chất bôi trơn và dầu phanh .
Do tính ổn định hóa học cao, CF4 cũng được sử dụng trong công nghiệp nấu chảy kim loại và chất dẻo.
Các đặc điểm và xu hướng phát triển của khí điện tử được sử dụng trong VLSI ngày nay là siêu {0}} tinh khiết, siêu - sạch, đa - đa dạng và đa - quy mô. Để thúc đẩy sự phát triển của các ngành công nghiệp vi điện tử của mình, các quốc gia đang chú trọng hơn đến việc phát triển công nghệ sản xuất khí điện tử đặc biệt. CF4 đã chiếm lĩnh thị trường khí ăn mòn từ lâu với giá thành tương đối thấp nên có tiềm năng phát triển rộng.
Nitơ triflorua (NF3)
Nitrogen trifluoride is mainly used in the cleaning of chemical vapor deposition (CVD) devices in the semiconductor industry. Nitrogen trifluoride can be used alone or in combination with other gases as etching gas for plasma processes, for example, NF3, NF3/Ar, NF3/He is used for the etching of silicon compound MoSi2; NF3/CCl4, NF3/HCl are used for both the etching of MoSi2 and NbSi2.
Lưu huỳnh hexafluoride (SF6)
Là nguyên liệu chứa flo - quan trọng, lưu huỳnh hexafluoride được sử dụng rộng rãi trong ngành thiết bị điện, sản xuất chất bán dẫn, ngành điện lạnh, nấu chảy kim loại màu phi -, hàng không vũ trụ, y tế (tia X - máy, máy laze), khí tượng (phân tích lần vết)), công nghiệp hóa chất và nhiều ngành, lĩnh vực khác.
Do đặc tính cách điện tuyệt vời và khả năng giảm hồ quang, lưu huỳnh hexafluoride cấp công nghiệp được sử dụng rộng rãi trong các ngành thiết bị phân phối và điều khiển trong thiết bị điện, bao gồm khí - thiết bị đóng cắt cách điện, cầu dao, máy biến áp - điện áp cao, Đường ống truyền tải điện được cách điện, công tắc - điện áp cao, tụ điện kết hợp khí - kèm theo, máy biến áp, v.v., là phương tiện cách điện thế hệ thứ ba -.
Lưu huỳnh hexafluoride cấp điện tử chủ yếu được sử dụng để khắc và làm sạch trong quá trình sản xuất thiết bị hiển thị tinh thể bán dẫn và bảng điều khiển.
Octafluorclobutan (C4F8)
Octafluorocyclobutane has stable chemical properties, non-toxic and harmless, low greenhouse effect potential (GWP) value and ozone depletion index (ODP) value is zero. It is a green and environmentally friendly special gas.
Octafluorocyclobutane is widely used. In recent years, it has been used as a refrigerant to replace the banned chlorofluorocarbons. In addition, it is also commonly used in gas insulating media, solvents, sprays, foaming agents, large-scale circuit etchants, and heat pump work, etc. It is also the raw materials to produce C2F4 and C3F6.
Độ tinh khiết - octafluorocyclobutan cao (trên 5N) được sử dụng trong chất tẩy rửa và chất tẩy rửa VLSI. Trong những năm gần đây, nhu cầu về octafluorocyclobutan tăng lên hàng năm, và nghiên cứu về quá trình điều chế và tinh chế của nó đã được chú ý nhiều hơn, và triển vọng ứng dụng là rất rộng rãi.
N2O, nitơ oxit (khí cười): Với sự phát triển của ngành công nghiệp bán dẫn, lượng tiêu thụ tăng đột biến
Nitrous oxide gas, commonly known as nitrous oxide, has the molecular formula N2O. High-purity nitrous oxide gas is mainly used in semiconductor, LCD, OLED manufacturing process, oxidation, chemical vapor deposition (nitrogen source for CVD deposition of silicon nitride) and other processes are all involved by the nitrous oxide.
Với nhu cầu ngày càng tăng của thị trường đối với chip bán dẫn và tấm nền LCD, lượng nitơoxit như một nguyên liệu khí quan trọng cũng sẽ tăng lên theo từng năm.
Silane: Nó được sử dụng để sản xuất pin mặt trời, sợi quang dẫn và cảm biến quang điện
Silane is mainly used in the semiconductor industry to produce high-purity polysilicon, silicon dioxide thin films, silicon nitride thin films, polysilicon isolation layers, polysilicon ohmic contact layers and hetero- or homogenous silicon epitaxial growth materials, etc. It can also be used to make solar cells, optical fibers and photoelectric sensors.
In the semiconductor production process, silane is an extremely important key "source" gas in the Quá trình hình thành màng PECVD và LPCVD. Ngoài các ứng dụng bán dẫn, silan còn là một nguyên liệu thô quan trọng trong sản xuất đèn LED và - màn hình LCD TFT.